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溅射靶材市场应用结构及企业格局分析 ? ? 靶材：溅射薄膜制备的源头材料, 又称溅射靶材, 特别是高纯度溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）工艺, 是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料. ? ? 溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布. 产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节. 其中, 靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节. 高纯靶材产业链 公开资料整理 ? ? 溅射靶材的制备工艺主要分熔融铸造法和粉末冶金法两种. 熔融铸造法的优点是靶材杂质含量(特别是气体杂质含量) 低, 密度高, 可大型化, 缺点是需要后续加工和热处理工艺降低其孔隙率, 难以做到成分均匀化. 粉末冶金法优点是靶材成分均匀, 节约原材料, 生产效率高；缺点是密度低, 杂质含量高. 靶材的基本制备工艺 公开资料整理 ? ? 为推动溅射靶材产业发展, 增强产业创新能力和国际竞争力, 带动传统产业改造和产品升级换代, 进一步促进国民经济持续、快速、健康发展, 中国推出了一系列支持溅射靶材产业发展的政策. 溅射靶材相关政策 政策名称 内容 《2014-2016 年新型显示产业创新发展行动计划》 产业链提升行动：推动高纯度钼（Mo）、铝（Al）、钛（Ti）、铜（Cu）等金属靶、氧化铟锡（ITO）