第08章液晶显示器的阵列工艺技术.pptxVIP

第8章 液晶显示器的阵列工艺技术;本章主要内容;8.1 阵列工艺概述;8.1 阵列工艺概述;清洗 溅射 CVD 涂胶 曝光 显影;清洗：就是用毛刷、气蚀等的物理方法及用化学腐蚀的化学方法或二者相结合的方法，除去基板表面的灰尘、污染物及自然氧化物的工程。在阵列中洗剂采用的是NCW-601A0.3%的表面活性剂。;溅射：就是在真空室中，利用核能粒子轰击靶材表面，靶材粒子在基板上沉积的工程。在阵列中惰性气体有Kr、Ar气，靶材有MoW靶、ITO靶、Mo靶、AL靶。 直流磁控溅射的特点：放电空间的电场和磁场垂直。放电空间的电子回旋运动，放电气体的电离度大，射程长，产生高密度的等离子。 MoW溅射、ITO溅射、MoAlMo溅射;8.3 溅射工艺;8.3 溅射工艺;CVD：化学气相沉积。就是在高频电场的作用下，使反应气体电离形成等离子体，反应离子及活性基团依靠从高频电场获得的能量从而能够在较低的温度衬底上成膜。在阵列中，有AP CVD（常压CVD）和PCVD（等离子体CVD）两种。;8.4 CVD工艺;8.4 CVD工艺;通入反应气体;1. 涂胶 - 前清洗 - 烘干/冷却 - 喷HMDS / 冷却 - 涂胶 - 前烘 / 冷却 ;涂胶：就是在基板上涂上一层光刻胶（树脂、感光剂、添加剂、溶剂）。涂胶的方式是旋转基板，用滴管从中间滴下光刻胶，