第六章离子镀离子束沉积.pptxVIP

《现代薄膜技术》 第六章 离子镀、离子束沉积和离子注入;6.1　离子的作用 6.2　离子镀 6.3　离子束沉积 6.4 离子注入;6.1 离子的作用;1、离化率问题;10-2 10-4;溅 射 产生缺陷 结晶学破坏 改变表面形貌;2、离子轰击对基体和镀层交界面的影响;3、离子轰击在薄膜生长过程中的作用;6.2 离子镀;6.2.2 原理和基本过程;6.2.3 离子镀的蒸发源;6.2.4 离子镀的类型及特点;;;1、直流二极型离子镀;2、三极型和多阴极方式的离子镀 目的是提高离化率！;;3、活性反应蒸镀（ARE）;4、空心阴极放电离子镀（HCD）;;5、射频放电离子镀（RFIP）;6、多弧离子镀;6.3 离子束沉积;6.3.1、质量分离式离子束沉积;改进型：质量分离正、负离子束沉积;6.3.2、离化团束沉积;;6.3.3、离子束辅助沉积; 离子束沉积技术中，使用单独的离子源完成对衬底表面的轰击，而欲沉积的物质则来自于一个蒸发源。 这一方法结合了高速蒸发沉积和偏压溅射离子轰击的特点，同时具有离子束的能量、方向可调的优点。;双离子束薄膜沉积系统中，分别使用了两个离子源： 一个被用来对衬底施加离子轰击， 另一个则用来对靶材进行溅射从而提供沉积所需要的物质原子。 对两个离子源分别进行控制，即可实现对薄膜沉积速率和轰击离子流的独立控制。 特 点： 附着力好；任意组分靶材均可；膜层组分和种类调控。 沉积速率低；择优溅射；绕射性差;最大区别： 离子的产生与靶材的溅射分开。 离子产生区在0.1Pa，溅射区的真空维持在低于10-3Pa.;特点： （1）由于离子束溅射是在较高的真空度条件下进行的，因此气体杂质的污染小，容易提高薄膜的纯度； （2）离子束溅射做到了在衬底附近没有等离子体的存在，也就不会产生等离子体轰击导致的衬底温度上升、电子和离子轰击损伤等； （3）可以做到精确控制离子束的能量、束流大小和方向，而且溅射出的原子可以不经过碰撞过程直接沉积为薄膜，因而离子束溅射非常适合做为一种薄膜沉积的研究手段。 （4）缺点是装置过于复杂，沉积速率较低，设备运行成本较高。;6.4 离子注入;1、离子注入掺杂;2、离子注入用于金属材料改性;【注氧隔离技术(Separation by Implanted Oxygen, SIMOX)】 SOI（silicon on insulator）材料，即绝缘体上硅材料，是国际公认的为“二十一世纪硅集成电路技术”的基础。;4、离子注入生物应用;　PLASMA等离子术作用原理 　　闪耀离子束由一个超高频的射频生成器构成，它激活调谐共振器把能量传递给惰性气体(空气中的)氮气。这种激活的电离气体被称为等离子，发射的光谱峰值在可视区(主要为靛青和紫蓝色)和近红外区。 使用氮气作为气源是因为它可以从皮肤表面隔绝氧气，减少了不可预知的热损伤、炭化和瘢痕形成的风险。离子束(Micro-Plasma)会在皮肤上建立微通道，微通道内气体离子浓度很高，炽热的气体离子在表皮上产生直径70-120微米的微小热损伤点，受损脱水的皮肤组织作为生物敷料保留，其深度为150微米或更深(随功率加大而加深)。微通道末端的热效应可以达到皮下500-1000微米深，有效加热真皮层。;与传统激光相比Plasma的优势 　　1、大大降低色沉风险 　　传统激光和物理磨削方式都会造成皮肤组织的物理缺损，使得皮肤色沉的风险大大增加。Plasma等离子术不需要和皮肤发色基相作用，也不气化组织，完整保留分离的表皮。 　　2、具有很强的胶原刺激和胶原重塑作用 　　传统激光和物理磨削的方式主要针对瘢痕表面的平整度处理。微等离子可以改变瘢痕表浅的均匀度和平整度，促进深部胶原层的增生和重新排列，快速有效重建。 　　3、生物敷料作用，有效保护创口 　　离子束作用在皮肤上，不会产生表皮组织的气化，有效保护了创口，降低感染的风险，且大大降低了色素沉着等副作用。 　　4、深层加热皮肤，从而有效紧致肌肤，改善肤质 　　Plasma等离子束的热效应可以深达皮肤真皮组织胶原层，刺激深层胶原蛋白的增生和重新排列，从而紧致肌肤，改善肤质。;疤痕治疗效果;与离子有关的薄膜技术