中束流离子注入机.pdfVIP

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2021-12-02 发布于广东
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M/C 离子注入机 §1. 概述在半导体行业中，离子注入的机台主要分为高能量（H/E ），大束流（H/C ），中束流（M/C ）三种。这里主要介绍的是中束流的离子注入机台。中束流机台（Medium Current ）一般是单个晶片进行注入，注入的剂量一般在 1E11 到 1E14 之间，而能量则在 5kev 到 200kev 之间。我们经常用到的 4 种离子为： 1． B 12Kev 1.6E12 30 μA 2 ．