[集成电路 哈工大]微电子工艺(6) - PRINT.pdf

第3单元薄膜制备 第7章化学气相淀积 (Chemical Vapor Deposition) 1 第7章化学气相淀积(CVD) 7.1 CVD概述 7.2 CVD工艺原理 7.3 CVD工艺方法 7.4 二氧化硅薄膜的淀积 7.5 氮化硅薄膜淀积 7.6 多晶硅薄膜的淀积 7.7 CVD金属及金属化合物薄膜