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光学镀膜机需包含如下几部分： 真空系统； 电子束蒸发系统； 离子束系统； 工件盘系统； 厚度监测系统； 软件及其他配置。 光学镀膜机 系统需求功能描述：用于制备多尺寸、多层、多种类光学介质膜 晶圆兼容需求：兼容6寸以下晶圆 性能参数： （1）真空系统 真空室：整机高度不超过2.8m，腔体内部采用电抛光的工艺方式 真空排气系统：无油系统，低真空前级干泵+高真空低温泵 压力控制：自动压力控制 真空计：采用皮拉尼+Bayard-Alpert复合真空计 极限真空：≤7E-5Pa 漏气率：≤9.0E-2Pa?L/s （2）电子束蒸发系统 ① 类型：e型电子束 ② 功率：≥10W ③ 支持坩埚直径：≥228mm ④ 电源系统：6KV~10KV或更宽，最大电流≥1A ⑤ 电子束宽度：50mm ⑥ 配备数量：2套电子束 （3）离子束系统 ① 类型：射频离子束 ② 离子能量：50-1200eV内连续可调或更宽 ③ 空间分布：离子束流密度分布不均匀性＜±10% ④ 辉光放电功率：≥600W ⑤ 气体：氧气30SCCM或氩气15SCCM （4）工件盘系统 ① 类型：既有自转也有公转的行星式系统 ② 速率：0-30rpm或更快 ③ 加热温度：≤350℃ ④ 温度均一性：≤300℃±10℃ （5）厚度监测系统 ① 类型：6点晶振监控物理膜厚+60点单波长反射式监控光学膜厚，并支持实时反馈调整镀膜配