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泓域咨询/年产xx吨碳化硅项目可行性研究报告
年产xx吨碳化硅项目
可行性研究报告
xx有限责任公司
报告说明
外延可满足不同应用领域对器件参数要求。外延是指在碳化硅衬底上生长了一层与衬底晶相同的单晶薄膜(外延层)的过程。为了满足SiC器件在不同应用领域对电阻等参数的特定要求,必须在衬底上进行满足条件的外延后才可制作器件,因此外延质量的好坏将会影响SiC器件的性能。目前SiC衬底上常见外延有SiC同质外延和GaN异质外延,前者用于功率器件,后者用于射频器件。
根据谨慎财务估算,项目总投资30803.39万元,其中:建设投资24384.77万元,占项目总投资的79.16%;建设期利息
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