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- 2022-05-19 发布于上海
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会计学
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基于增强型扫描结构ESFFSED的老化加固
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References
Keith A. Bowman, James W. Tschanz, Nam Sung Kim, Energy-Efficient and Metastability-Immune Resilient Circuits for Dynamic Variation Tolerance[J]. IEEE Journal OF Solid-State Circuits, vol. 44, No. 1, January 2009:49-63
A. Goel, S. Bhunia, H. Mahmoodi, and K. Roy. Low-overhead design of soft-error-tolerant scan flip-flops with enhanced-scan capability [C] // Proceedings of Asia and South Pacific Conference on Design Automation,Yokohama, 2006:665-670
Keith A. Bowman
North Carolina State University and He is currently a Staff Research Scientist in the Circuit Research Lab (CRL) at Intel Corporation
A. Goel
Stanford University Associate Professor and serve on the technical advisor board for Twitter Inc .
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背景介绍
在安全关键应用领域,如汽车自动化,数字系统错误是不可被接受的,在一些高效的系统中,要使得电子系统在很长一段时间(如15年或者更长仍然能够于恶劣的环境下正常工作,电路的老化必须被考虑到。深亚微米工艺下,半导体老化变的更加突出。老化会导致长期的系统性能退化,严重影响着系统的安全操作。可靠性操作变得越来越重要。同时,电路对软错误变得也越来越敏感。检测老化和软错误是目前安全性研究的热点。本文将检测老化和软错误整合到了一个单元里面。
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主要内容
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基础知识
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老化现象
晶体管的工艺参数(如Vth )会随着工作时间、施加电压、环境温度的变化而变动。随着关键尺寸不断缩小,NBTI成为影响老化的主要因素。
工作时间
施加电压
环境温度
ΔVth ∝ tn
NBTI
ΔVth ∝ e -(Ea/KT)
ΔVth ∝ e[(|Vgs|-Vtp|)/E0tox]
导致| Vth|增大
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老化现象
NBTI效应
Negative Bias Temperature Instability
正氧化层电荷Qf,是由热空穴和界面缺陷作用形成的
界面态Nit,普遍认为是Si-SiO2界面处的Si-H键断裂,留下一个正电性的Si悬挂键
郝跃,刘红侠.微纳米MOS器件可靠性与失效机理[M].北京:科学出版社,2008:209-233
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老化现象
界面态Nit和固定电荷Qf的形成示意图:
Si
O
H
+
Qf
OH
Nit
界面态
固定电荷
+
电化学反应模型:
Si3≡SiH +O3 ≡SiOSi ≡ O3→ Si3≡Si•+ O3 ≡Si++ O3 ≡SiOH+e+
Y Nit Qf X
SiO2层
Si衬底
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老化现象
NBTI导致影响:晶体管阈值电压Vth的变动将会导致传播延迟的增大,从而影响电路的正常性能。
物理机制
器件特性
电路影响
NBTI
阈值电压:| Vth |
… …
延迟时间:Td
… …
Td=CVDD/ID=C/(W/2L)µeffCoxVDD(1- | Vth | /VDD)
| Vth |
Td
(北京大学微电子研究院教程)
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老化现象
基于时序延迟Td的老化检测机制(Razor flip-flop结构)
通常是在系统主从触发器MSFF上并联一个锁存器LATCH,数据信号D在同一时钟控制下被锁存器和触发器捕获,在输出端由一个异或门比较锁存器和触发器捕获的信号,继而判断是否出现了老化。
LA
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软错误
高能粒子效应
在宇宙辐射环境中,存在着大量的包括电子、质子、光子、a粒子和重离子在内的高
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