纳米二氧化钛综述.docxVIP

纳米二氧化钛的制备综述 摘 要 综述了纳米二氧化钛的多种制备方法和原理，比拟和评述了不同方 法的优缺点。 关键词 纳米二氧化钛；制备方法；原理纳米材料以其特殊的性能和广阔的开展前景引起众多科学家们的广泛关注。纳米 材料是指微粒几何尺寸在lnm~100nm范围内的固体材料。纳米粒子是处于微观 粒子和宏观粒子之间的介观系统。纳米材料以其独特的外表效应、小尺寸效应、 量子尺寸效应和宏观量子效应等性质，而呈现出许多奇异的物理、化学性质，使 其在众多领域具有特别重要的应用价值和广阔的开展前景。纳米二氧化钛TiO2 是当前应用前景最为广阔的一种纳米材料，它是当前众多纳米材料中的“明星”。 我国对纳米二氧化钛的研究已经进入产业化开发与生产阶段，其制备手段可分为 物理和化学两大类。本文就采用化学方法制备纳米二氧化钛的一些方法进行总 结，并对不同方法的优缺点进行比拟和评述。 一气相法.气相合成法 气相合成法是一种传统方法。1941年德国Degussa公司 率先采用气相四氯化硅 氧焰水解制备自炭黑(纳米级的二氧化硅)。在20世纪80年代中后期，气相氢氧 焰水解法(Aerosil法)制备纳米级TiCh开始被应用于工业生产中。其生产过程是 将精制过的氢气、空气和氯化物(TIC14)蒸汽以一定的配比进入水解炉高温水解, 温度控制在1800℃以上，生成TiO2的气溶胶，经过聚集冷却器停留一段时间即 形成絮状大颗粒的TiCh,再经过脱酸炉脱酸(吸附在TiCh外表的HCD后，从而 得到产品，其生产原理如下： Ti+2CI4 = TiC 14TiCl 4 +2H2+ O2 = TiO2 + 4HCI Aerosil法的优点是：原料TiCh获得容易,可挥发，易水解，易提纯，产品无 需粉碎，物质的浓度小，生成粒子的凝聚少，气相产物TiCh的外表整洁、纯度 高，易控制粒径颗粒分布集中，可得到不同比外表或不同晶型的系列产品。 .气相沉积法化学气相沉积法可沉积金属、碳化物、氧化物、氮化物、硼化物等，能在几何形 状复杂的物件外表涂敷，涂层与基底结合牢固，此方法开展非常迅速。 魏培海以120kTi(OC4H” 为源物质，将一定流量的氮气通入其中进行鼓泡， 并作为载气将Ti(OC4H9)带入TiCh反响器，同时将一定量的氮气通入反响器，应 用金属气相沉积(MOCVD)方法沉积TiCh薄膜。当基底物质维持在40。忆时，在 基底外表发生以下反响：Ti(OC4H0+24 O2=TiO2+16CO2+18H2OTiCh分子沉积在基底外表，形成金红石型的TiCh薄膜，膜的厚度可通过调节反 应时间来控制，此膜具有较强的光响应性能及稳定性，平带电位与溶液的pH值 有关，是较理想的光电化学修饰材料。李文军等也以Ti(OC4H”为原料，氧气作 反响气体，高纯氮作载体，采用低压MOCVD法在单晶硅基片上制备了 TiCh薄 膜。通过控制基片温度制成不同构型的TiO2o孙顺明应用自制设备及MOCVD 技术，分别在高掺杂硅片和有透明导电膜玻璃的基片上生长了 TiO2薄膜。另外, 曹亚安等报道了应用等离子体化学气相沉积(PECVD)的方法制备TiO2纳米粒子 薄膜，采用。2和TiCl 4为反响前体，在ITO外表沉积了 Ti02纳米粒子膜。化学 气相沉积法得到的薄膜品质优良，并可以在任何的耐温基底上镀膜，但化学气相 沉积的镀膜设备相对复杂，并需要严格控制基底的温度，因为Ti02薄膜的形态 随基底的温度的改变而改变。 二液相合成法通过液相制备TiO2的方法主要有电沉积法、热水解法、水解沉淀法、溶胶一凝 胶法、喷雾热分解法等。 .制备Ti02薄膜的电沉积法⑴阳极电沉积法 以新鲜配制的TiCL3。溶液为电解液，工作电极为导电的基底电极进行电解，在 阳极得到无定型的钛(IV)水化膜，将膜在红外灯下或室温干燥，控制温度热处理 后即得到TiCh薄膜。电沉积和热处理过程发生的反响为： Ti3+ +H 2。==== TiOH 2++H+(快反响)TiOH2+- Ti(IV)polymers^TiO 2(慢反响) ⑵阴极电沉积法一些金属如Ni、Co、La和Cr的氧化膜可以在含有相应硝酸盐的酸性溶液中进 行阴极电沉积而制得，主要依据下面的电极反响 NO3 +6 H2 0+8e — NH3+9 OH-NO3-0 一的阴极还原提高了电极外表局部的pH值，导致氢氧化物在电极外表的 生成，热处理后得氧化物膜。对于TiCh,由于Ti在pHl时强烈水解，不能实 现上面的过程，但可利用相对稳定的TiO 2+离子，当溶液pH值提高时，可在电 极外表生成TiO(OH)2胶体，热处理得TiCh阴极电沉积的溶液中NO3-是不可少的。 Natarajan等采用钛粉为原料，用H2 0和氨水将其溶解得到溶胶，然后再加入硫 酸，得到硫酸氧钛。加入KN03