磁控溅射技术在光敏化电池上的应用策划.docxVIP

磁控溅射技术在光敏化电池上的应用 [策划] 生态能源和材料科学与工程 (EMSE2012) 采用射频磁控溅射技术实现染料敏化光电池阻挡层的沉积 Youl-moon sung* 庆星大学电气工程学院，釜山 608-736，韩国 摘要 用染料分子/电解质(i-/i3)对已使用透明可导电的掺氟二氧化锡(FTO)染料敏 化电池附着玻璃/多孔 TiO2 层/镀Pt 的 FTO 玻璃结构。在这项工作中，之前的纳米 多孔二氧化钛层上的 FTO 玻璃去，其致密层小于 100nm 的 Tio2 作为电子阻挡层直 接用(RF)磁控溅射技术沉积在FTO 的涂层上。在用 AM 低于 1.5100mW/cm^2 的照射 时，能量转换效率所制备的 DSC，其厚度达到 60nm 的电子阻挡层为 6.77%(VOC=0.715V,JSC=12.932mA/cm^2 时， FF=0.74)这比没有电子阻挡层的普通 电池增加了 1.27%。 关键词:阻挡层，染料敏化太阳能电池，射频磁控溅射，纳米多孔膜，二氧化 钛 1 引言 染料敏化太阳能电池(DSCS)自被发现以来就被人们深入研究。目前在 DSC 领域 人们对使用新一代能量收集装有着极大的兴趣，是因为它有着简单的结构和工艺， 低成本的制造，透明度，颜色控制和适用性灵活的 DSCS[2-4]。 DSCS 包含一个宽 能带隙的纳米多孔金属氧化物