电子显微镜simple培训课件.pptx

及其应用;电子显微镜的发明和发展;1924年，德国科学家De Broglie：任何一个靠近光速运动粒子都含有波动本质。 1926-1927年，Davission 、 Germer 和Thompson Reid 用电子衍射现象验证了电子波动性，发觉电子波长比X光还要短，从而联想到可用电子射线代替可见光照明样品来制作电子显微镜，以克服光波长在分辨率上不足 。 1926年，德国学者Busch:含有轴对称磁场对电子束起着透镜作用，有可能使电子束聚焦成像。 ;光学显微镜与电子显微镜比较;电子显微镜分类;1939年 第一台商品透射电子显微镜（TEM）;60年代 商品扫描电??显微镜（SEM）;第一章 透射电子显微镜（TEM）;第一节 电子与物质作用;透射电镜结构;透射电子显微镜结构;12;第二节 电子显微镜成象三大要素;a、人眼分辨能力：约0.1~ 0.2mm。 b、光学显微镜分辨率： ?——分辨率；?——可见光波长； nsin?——透镜孔径值。 当可见光波长为500nm时，?=0.2um;加速电压（v); 二、衬度： ?质厚衬度（吸收衬度）： 与样品原子序数及样品厚度相关。;?衍射衬度： 晶体满足布拉格衍射条件，发生衍射。 ;?相位衬度： 相位衬度——散射波和入射波发生干涉产生衬度。 条件：试样厚度小于10nm，细节1nm以下，此时以相位衬度为主。; 三、放大倍数： 光学显微镜放大倍数 = 光学显微镜放大倍数为； 电子显微镜放大倍数： 可达10 6 ~107数量级。;第三节 电子衍射 一、电子衍射形成： 借用光学透镜方法描述电子衍射：;电子衍射与X射线比较;;;Si3N4——SiC晶界高分辨象（加速电压400kV);;氮化硅结构像 ;第五节 试样制备及应用 一、高分子试样在电镜观察时受以下几方面影响： 1、真空度 2、电子损伤 3、电子束透射能力： 200kV加速电压下 切片厚度应在100nm 以下。 二、试样制备普通操作： 1、网种类： 材料：铜、镍、 不锈钢、 尼龙等; 对支持膜要求： （1）有一定机械强度； （2）电子束照射下稳定性好； （3）轻易透过电子射线； （4）本身在试验条件下无结构； （5）化学稳定性好； （6）轻易确定厚度； （7）轻易制作。;3、试样固定方法： （1）直接固定； （2）粉末分散：a、撒在支持膜上； b、悬浊法—— 超声分散； c、 混于火棉胶——制膜。 ;（2）修块： 依据需要修成如图所表示形状。 （3）切片：;（4）切片厚度： 在水面上切片厚度与颜色对应关系： 暗灰色 40nm以下 灰色 40~50nm 银色 50～70nm 金色 70～90nm 紫色 90nm以上 （5）捞取切片;5、染色： （1）OsO4染色，可染-C=C-双键、-OH基、-NH2基。 其染色反应是：;方法：将切片置于密闭容器中，用2％OsO4水蒸汽熏30min，或将试样切成样条，在溶液中浸泡一周。;（2）RuO4染色： 克服了OsO4染色不足。对大部分聚合物都能染色 ，对PVC、PMMA、PAN、PVF不能染色。对不一样聚合物染色速率不一样。 PP/PS PET/PS 方法：用0.5％RuO4水蒸汽熏15~40min。;三、应用：（1）结晶性材料：; 未加增容剂 加增容剂 PA/POE ;PA/SEBS/AAS共混物 PPO/SEBS PP/SBS（OsO4染 ） ;(3)其它应用： 1、动态观察：研究高聚物断裂机理。; 拉伸中 断裂后 层状结构SBS拉伸 原位拉伸HIPS中橡胶相断裂破坏;2、应力白化观察 ;3、高分子“合金”中填充剂分散情况;4、高分子乳液颗料形态;;分子筛介孔材料（孔径3nm）;两种工业重整催化剂在管