1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 办公文档
  5. 通知/申请

光刻机项目申请报告（参考模板）.docx

光刻机项目申请报告（参考模板）.docx

    1. 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
    2. 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
    3. 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
    查看更多
    泓域咨询/光刻机项目申请报告 报告说明 2020年开始全球领先的晶圆厂纷纷加速扩产提升资本开支，根据ICInsights，2021年全球半导体资本开支增速达到36%，预计2022年将继续增长24%，2020-2022年将会成为自1993-1995年以来的首次CapEx连续三年增速超过20%。半导体设备作为晶圆厂扩产的重要开支部分，根据SEMI，2021年全球晶圆厂前道设备支出增速达到42%，预计2022年将进一步增长18%。 根据谨慎财务估算，项目总投资37717.82万元，其中：建设投资30103.59万元，占项目总投资的79.81%；建设期利息334.21万元，占项目总投资的0.89%；

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    泓域咨询 + 关注
    官方认证
    服务提供商

    泓域咨询（MacroAreas）专注于项目规划、设计及可行性研究，可提供全行业项目建议书、可行性研究报告、初步设计、商业计划书、投资计划书、实施方案、景观设计、规划设计及高效的全流程解决方案。

    咨询作者（134人已咨询） 服务中
    认证主体泓域（重庆）企业管理有限公司
    IP属地广西
    统一社会信用代码/组织机构代码
    91500000MA608QFD4P

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >