太原薄膜设备项目可行性研究报告.docx

泓域咨询/太原薄膜设备项目可行性研究报告 报告说明 PVD和CVD是主要的薄膜设备，ALD是产业技术发展趋势。在半导体领域，薄膜主要分给绝缘薄膜、金属薄膜。大部分绝缘薄膜使用CVD，金属薄膜常用PVD（主要是溅射）。其他常用的镀膜方式包括ECD、SOD、MOCVD、Epitaxy等。在薄膜设备整体中，CVD的使用越来越广泛，基于CVD发展的ALD更是行业升级的技术方向。 根据谨慎财务估算，项目总投资26532.98万元，其中：建设投资21693.48万元，占项目总投资的81.76%；建设期利息538.25万元，占项目总投资的2.03%；流动资金4301.25万元，占项目总投资的16.21%。