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泓域咨询/薄膜设备产业园项目投资价值分析报告
报告说明
PVD和CVD是主要的薄膜设备，ALD是产业技术发展趋势。在半导体领域，薄膜主要分给绝缘薄膜、金属薄膜。大部分绝缘薄膜使用CVD，金属薄膜常用PVD（主要是溅射）。其他常用的镀膜方式包括ECD、SOD、MOCVD、Epitaxy等。在薄膜设备整体中，CVD的使用越来越广泛，基于CVD发展的ALD更是行业升级的技术方向。
根据谨慎财务估算，项目总投资5499.44万元，其中：建设投资4454.09万元，占项目总投资的80.99%；建设期利息106.31万元，占项目总投资的1.93%；流动资金939.04万元，占项目总投资的17.08%。
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