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泓域咨询/刻蚀设备产业园项目招商方案
目录 TOC \o 1-3 \h \z \u
第一章 行业、市场分析 7
一、 反应离子刻蚀 7
二、 高密度等离子体刻蚀 7
三、 干法刻蚀是芯片制造的主流技术 8
第二章 项目绪论 11
一、 项目名称及投资人 11
二、 编制原则 11
三、 编制依据 12
四、 编制范围及内容 12
五、 项目建设背景 12
六、 结论分析 14
主要经济指标一览表 16
第三章 背景及必要性 19
一、 离子束刻蚀 19
二、 等离子体刻蚀面临的问题 19
三、 积
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