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泓域咨询/IBC电池产业园项目投资决策报告
报告说明
ARC抗反射涂层,旋涂于光刻胶与Si衬底界面处以吸收光刻反射光的物质背结光入射的那一面一般约定为正面,普通P型电池正面的PN结是最终需要使用的,而背面的则称为背结。在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。
根据谨慎财务估算,项目总投资17044.13万元,其中:建设投资13061.70万元,占项目总投资的76.63%;建设期利息282.15万元,占项目总投资的1.66%;流动资金3700.28万元,占项目总投资的21.71%。
项目正常运营每年营业收入34800.00万元,
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