北海关于成立刻蚀设备公司可行性报告范文参考.docx

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2022-07-21 发布于重庆
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泓域咨询/北海关于成立刻蚀设备公司可行性报告北海关于成立刻蚀设备公司可行性报告 xxx集团有限公司报告说明干法刻蚀在半导体刻蚀中占主流地位，ICP与CCP是应用最广泛的刻蚀设备。刻蚀是使用化学或者物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀，干法刻蚀市场占比超90%。干法刻蚀也称等离子刻蚀，是使用气态的化学刻蚀剂去除部分材料并形成可挥发性的生成物，然后将其抽离反应腔的过程。等离子体刻蚀机根据等离子体产生和控制技术的不同而大致分为两大类，即电容性等离子体（CCP）刻蚀机和电感性等离子体（ICP）刻蚀机。CCP刻蚀机主要用于电介质材料的刻蚀工艺，IC