泓域咨询/大连功率半导体芯片项目申请报告
报告说明
在国内外功率二极管领域,自1950年开始应用单晶硅材料进行功率二极管芯片制造以来,其制造技术不断更新和提升,先后经历了OJ工艺、刀刮法GPP工艺、电泳法GPP工艺以及光阻法GPP工艺,相对于前期三代主流技术光阻法GPP工艺具有显著的技术门槛、技术难度和准入壁垒,产品品质及可靠性最佳。从半导体二极管发展历程来看,虽然起步于50年代,但人类对二极管的研究和提升同其他分立半导体器件一样一直在持续进行,功率二极管芯片制造技术也在随着技术进步及需求变化而不断发展。功率二极管是半导体电路基础元器件,从日常电子消费品到领域均有应用,其品质好坏也直接影响了终
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