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本实用新型公开了一种单晶炉炉体结构,特点是所述的上炉室顶部设置有晶体提升旋转机构,下炉室底部设置有坩埚提升旋转机构;所述的上炉室与炉盖之间设置有隔离阀室;所述的上炉室、下炉室的内筒体与外筒体之间均设置有隔水条,隔水条一侧与内筒体贴合,另一侧与外筒体贴合;所述的内筒体表面设置有若干组导向槽,所述的导向槽呈螺旋状排列并通过焊接固定设置在内筒体表面;所述的隔水条嵌入设置在导向槽内;所述的上炉室、下炉室的端面法兰内侧设置有环向的密封槽。优点是大大降低了水路发生窜水现象的几率;炉室的密封效果大大提高,有效
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 217781327 U
(45)授权公告日 2022.11.11
(21)申请号 202221214082.6
(22)申请日 2022.05.20
(73)专利权人 光科真空科技(泰兴)有限公司
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