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一“明”一“暗”检缺陷，相辅相成提良率
——半导体设备研究系列之明暗场缺陷检测设备
要点
前道量检测是半导体晶圆制造的关键工序之一，其中明场和暗场检测是重要的检
测环节，对芯片制造起着至关重要的作用，是提高产品良率、降低生产成本、推
进工艺迭代的重要环节，在多个方面存在很大的不同。
根据应用技术的不同，现阶段的前道缺陷检测主要包括电子束检测和光学检测，
其中光学检测技术凭借速度快、无接触、非破坏和易于在线集成等优点被广泛应
用。常见的光学缺陷检测系统分为明场系统和暗场系统，二者在照明方法、成像
原理等方面存在较大差异，相应地，在技术难度上也有一定差别，整体而言明场
系
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