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- 2023-01-08 发布于北京
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本实用新型涉及一种带有喷嘴的CVD反应器,包括炉体、CVD反应器、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,炉体的顶部固定安装有传动箱;传动组件设置在传动箱的内部,公转喷嘴组件设置在CVD反应器外侧的底部,自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端;传动组件用于带动CVD反应器进行旋转;公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。本实用新型的有益效果在于,在CVD反应设备技术领域中,通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器中,再驱动传动组件带动CVD反应器进行旋转进行充分的混合原料气,同时利用公转喷嘴组件和自转
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218232569 U
(45)授权公告日 2023.01.06
(21)申请号 202222600040.2
(22)申请日 2022.09.29
(73)专利权人 苏州耀德半导体有限公司
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