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本实用新型提供一种磁控溅射镀膜试验设备,包括工作台、磁控溅射镀膜主体、升降机构和定位夹持机构。磁控溅射镀膜主体、升降机构和定位夹持机构均设置于水平台面上。升降机构与磁控溅射镀膜主体固定连接。定位夹持机构包括多个定位夹持组件。定位夹持组件能够朝向或远离磁控溅射镀膜主体,以定位夹紧或松开磁控溅射镀膜主体。定位夹持组件能够跟随升降机构进行升降运动。通过在工作台上设置有定位夹持机构,定位夹持机构包括多个间隔设置的定位夹持组件,定位夹持组件能够从磁控溅射镀膜主体的外部四周对其进行夹持定位,本实用新型采用定
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218232552 U
(45)授权公告日 2023.01.06
(21)申请号 202221788962.4
(22)申请日 2022.07.12
(73)专利权人 超微声科技术(苏州)有限公司
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