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- 2023-01-17 发布于四川
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本实用新型涉及等离子体激发装置技术领域，公开了一种微波等离子体薄膜沉积装置，包括反应体、等离子体激发锥体、薄膜沉积基台和多层微波源组件，反应体内设有微波谐振腔；每层微波源组件均包括多个微波激励源，多个微波激励源沿反应体的周向分布于反应体的侧壁；等离子体激发锥体和薄膜沉积基台分别设置于反应体的两端，等离子体激发锥体的尖部朝向微波谐振腔内；等离子体激发锥体内设有进气流道，进气流道贯通至等离子体激发锥体的尖部。该微波等离子体薄膜沉积装置在薄膜沉积基台上有大面积的高场强区域分布，从而在高场强作用下激发出
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212270234 U
(45)授权公告日 2021.01.01
(21)申请号 202020534442.5
(22)申请日 2020.04.13
(73)专利权人 北京工业大学
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