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本实用新型公开了一种真空吸盘及硅片输送装置，属于硅片输送设备技术领域。本实用新型的真空吸盘，其包括基座和吸附板，基座的上侧面开设有安装口，吸附板连接在安装口上，基座和吸附板之间形成有真空腔；真空吸盘在工作时，硅片在压强差的作用下被吸附在吸附板上，吸附板的气道等距分布，且气道上等距开设有多个吸附孔，各气道上的吸附孔数量形同，且位置相对应，使得吸附板能够均匀地将吸附力施加给硅片，以防止硅片在输送过程中因加速度过大而脱落，同时不易在硅片的表面形成吸附痕迹，有效提高了硅片的良率。本方案的硅片输送装置，其
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212268817 U
(45)授权公告日 2021.01.01
(21)申请号 202020329186.6
(22)申请日 2020.03.17
(73)专利权人 苏州迈为科技股份有限公司
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