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昆山HJT靶材研发项目可行性研究报告.docx

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    泓域咨询/昆山HJT靶材研发项目可行性研究报告 报告说明 靶材的核心需求是高密度、高纯度、高均匀性。进风温度、烧结升温速率、成型压力、粘结剂、分散剂、稳定剂含量等均会影响靶材的性能。不同应用领域对靶材材料的选择和性能要求存在差异，其中半导体靶材的技术和纯度要求高，平板显示器靶材的材料面积和均匀度要求高。目前对溅射靶材的研究朝着多元化、高纯度、大型化、高溅射速率、高利用率等方向进行。ITO靶材本质属于陶瓷，内部晶体结构需要工艺技术搭配出来，对透光率、导电率、硬度、平整度、纯度都有要求，比金属靶材的工艺更为复杂，技术壁垒较高。 根据谨慎财务估算，项目总投资975.08万元，其中：建设投资506.5

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