一种面源黑体及其设备.pdfVIP

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  • 2023-02-01 发布于四川
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本申请公开了一种面源黑体及其设备,包括:第一基体;第二基体,可拆卸设置于第一基体上;无机盐,铺设于第二基体背离第一基体的一端面上;封闭层,封闭盖设于第二基体上铺设有无机盐的表面。本申请面源黑体及其设备能够方便第二基体的更换和安装;也能够防止外界的氧气分子、水分子等进入到第二基体上。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212320929 U (45)授权公告日 2021.01.08 (21)申请号 202021222434.3 (22)申请日 2020.06.28 (73)专利权人 浙江大华技术股份有限公司

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