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薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统.pdfVIP

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  • 2023-02-02 发布于四川
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薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统.pdf

    本实用新型公开一种薄膜材料沉积反应装置，其中，所述薄膜材料沉积反应装置包括：气体分布台，设有扩散槽，所述扩散槽的底壁设有供气孔，所述气体分布台用于对膜材表面进行原子层沉积；扩散板，设于所述扩散槽内，并与所述扩散槽的底壁围合形成扩散腔，所述扩散板开设有间隔设置的多个扩散孔，所述供气孔和多个所述扩散孔与所述扩散腔连通，至少部分所述扩散孔的孔径不同。本实用新型提出的薄膜材料沉积反应装置能够提升膜材表面沉积的原子沉积膜的均匀性。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212335285 U (45)授权公告日 2021.01.12 (21)申请号 202020670176.9 (22)申请日 2020.04.27 (73)专利权人 深圳市原速光电科技有限公司

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