原子层沉积设备.pdfVIP

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  • 2023-02-02 发布于四川
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本实用新型公开一种原子层沉积设备,该原子层沉积设备包括反应装置、放卷装置和收卷装置,反应装置设置于放卷装置和收卷装置之间,反应装置具有沿基底传输方向延伸的沉积隧道以及与沉积隧道连通的气体供给口,气体供给口包括隔离气体供给口、至少一组前驱体供给口以及至少一组反应物供给口,任意两组前驱体供给口与反应物供给口沿基底的传输方向交替间隔设置,任意相邻的一组前驱体供给口与一组反应物供给口之间设置有隔离气体供给口,每组前驱体供给口包括至少两个前驱体供给口,每组反应物供给口包括至少两个反应物供给口。本实用新型能

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212335286 U (45)授权公告日 2021.01.12 (21)申请号 202020670179.2 (22)申请日 2020.04.27 (73)专利权人 深圳市原速光电科技有限公司

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