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一种真空腔进样系统.pdfVIP

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  • 2023-02-07 发布于北京
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一种真空腔进样系统.pdf

    本实用新型提供了一种真空腔进样系统，用于解决现有技术中真空腔进样系统容易破坏其他腔室的真空环境、无法实现大气进样的技术问题；包括：中转腔和真空存样腔；所述真空存样腔包括第一法兰、样品固持装置和第一传样装置；所述第一法兰设置第一阀门；所述中转腔包括第二法兰、第三法兰、真空泵、传样台和第二传样装置；实施本实用新型的技术方案，中转腔连接真空腔体，设置真空存样腔，并通过闸阀隔离中转腔、真空存样腔和外部腔体，可在不破坏外部腔体真空环境的前提下完成进样；设置常压进样门，可实现常压进样；真空存样腔通过CF法兰

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212375375 U (45)授权公告日 2021.01.19 (21)申请号 202021644793.8 (22)申请日 2020.08.10 (73)专利权人 北京大学 地址 1

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