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一种等离子体增强化学气相沉积设备.pdfVIP

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  • 2023-02-07 发布于北京
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一种等离子体增强化学气相沉积设备.pdf

    本实用新型涉及镀膜技术领域，具体涉及一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括抽真空机构、反应机构及移送机构，抽真空机构与反应机构相连通，移送机构将待处理产品送入或取出反应机构，反应机构包括反应腔室、电极组件及承载组件，电极组件设置在反应腔室的顶端并在反应腔室的内部移动，承载组件设置在反应腔室的底端并在反应腔室的内部移动，电极组件包括至少一个出气装置，出气装置从上往下依次包括弥散管和弥散球头，弥散管和弥散球头均设有若干个均匀分布的弥散孔。以此可以使镀膜气体从弥散管和弥散球头中全方位发散，确保镀膜气体

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212375378 U (45)授权公告日 2021.01.19 (21)申请号 202022079239.6 (22)申请日 2020.09.21 (73)专利权人 东

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