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一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置.pdfVIP

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  • 2023-02-09 发布于北京
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一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置.pdf

    本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置，其特征在于：所述布气装置包括源布气管以及散气机构，其中所述源布气管上开设有出气孔，所述散气机构位于所述源布气管上开设的所述出气孔的出气路径上。本实用新型的优点是：1）可以实现单等离子体增强原子层沉积腔体内多种类型不同材质的膜层的同时生产；2）可以实现工艺腔体内的气流均匀分布，并且可以快速实现不同源气体的迅速吹扫和切换；3）可以实现工件膜层均匀性和膜层光学常数的快速调节；4）结构简单合理，便于安装及后期维护，

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212404275 U (45)授权公告日 2021.01.26 (21)申请号 202021590679.1 (22)申请日 2020.08.04 (73)专利权人 光驰科技（上海）有限公司

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