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本发明提供了一种光刻设备及硅片预对准方法，硅片预对准装置包括：底板、平移单元、升降单元、旋转单元和光学采集系统。旋转单元与升降单元相互独立设置，旋转运动与升降运动分离，提高运动行程效率。旋转单元设置在平移单元上，平移单元带动旋转单元平移，一方面：实现硅片的偏心量补偿；另一方面：使旋转单元与光学采集系统的横向距离可调，从而适应不同硅片尺寸。升降运动与旋转运动并行，预对准流程改串行为部分并行，缩短流程时间，提高效率。升降单元带动第二吸盘做升降运动，从而使旋转单元上的第一吸盘与升降单元的第二吸盘之间的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113467202 A
(43)申请公布日
2021.10.01
(21)申请号 20201
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
版权声明书
用户编号：8063122115000010
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