原创力文档- 1、本文档共8页，其中可免费阅读4页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本实用新型公开一种用于金刚石膜沉积工艺的基片超声预处理支架，包括腔体，腔体的顶面上插接有气管，腔体的底面上固定有支架，腔体内设有相互垂直的两条气路，两条气路位于同一平面上，两条气路连通，气管伸入腔体连通两条气路的连接处，气路的两端分别插接在腔体上对称的两个侧壁上，腔体的侧壁上开设有衬底卡槽，衬底卡槽的底壁上开设有密封槽，密封槽内嵌设有密封垫，气路的端部贯穿密封垫，本实用新型一可以使衬底悬于悬浊液中，二可提高衬底每部分处理的均匀性，还可根据需要选择最佳的处理角度，在处理衬底的数量上有很大的提高，因
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212451631 U
(45)授权公告日 2021.02.02
(21)申请号 202021282213.5 C23C 14/02 (2006.01)
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
文档评论（0）