一种用于CVD设备的反应室涡轮结构.pdfVIP

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2023-02-15 发布于四川
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一种用于CVD设备的反应室涡轮结构.pdf

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本实用新型公开了一种用于CVD设备的反应室涡轮结构，包括腔室，腔室内设置有旋转支撑柱，旋转支撑柱沿着轴向方向均匀设置有多个叶片，叶片上设置有凹槽，通过所述凹槽安装有晶圆，旋转支撑柱还设置有气体分流板，气体分流板设于所述叶片的下方；气体分流板设置有多个分流孔，腔室的底部设置有连通尾气系统的排气孔；有益效果是：在腔室设置四排出气孔，出气方向与旋转机构方向一致，可产生辅助的旋转动力，出气孔的气体来源与喷淋板的反应气体一致，同时使用气体质量流量计来控制侧壁出气量，出气孔输出的反应气体也作为补充气体填补未

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212560430 U (45)授权公告日 2021.02.19 (21)申请号 202020797191.X (22)申请日 2020.05.13 (73)专利权人深