一种氧化均匀的半导体加工系统.pdfVIP

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2023-02-15 发布于四川
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一种氧化均匀的半导体加工系统.pdf

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本实用新型公开了一种氧化均匀的半导体加工系统，包括加工箱，所述加工箱底部的两侧均固定连接有座脚，所述加工箱顶部的里侧固定连接有L型架，所述加工箱的顶部固定连接有隔热U型板，且隔热U型板的外表面与L型架的内表面固定连接，本实用新型涉及半导体加工技术领域。该氧化均匀的半导体加工系统，通过设置往复机构，利用半齿轮的转动带动啮合的齿牙移动，经过固定套使得放置板在两个固定板的底部间歇滑动，配合电机箱内的电机驱动，可以使得放置在放置板表面的半导体来回滚动，半导体进行加热氧化时，可以使其表面与热气充分接触，避

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212587455 U (45)授权公告日 2021.02.23 (21)申请号 202021039561.X (22)申请日 2020.06.09 (73)专利权人苏宇地址 236