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本实用新型提供了一种磁激励单元及磁流体抛光装置，包括第一磁体和第二磁体，所述第二磁体围绕所述第一磁体设置，所述第一磁体与第二磁体的磁极方向一致。本实用新型的有益效果在于：提供了一种磁激励单元及磁流体抛光装置，通过磁激励单元让磁流体沿竖直方向形成磁流体波峰，再通过驱动电机带动工件挂架旋转，从而让工件与磁流体波峰发生相对运动实现对工件的抛光，使工件能够均匀受到磁流体波峰的外力作用，能够快速获得50nm以下的表面精度抛光和1um以下表面粗糙度的打磨而不会有亚表面缺陷，且由于磁流体受磁力束缚，不会产生粉
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212600654 U
(45)授权公告日 2021.02.26
(21)申请号 202021103263.2
(22)申请日 2020.06.15
(73)专利权人 东莞市弘名电子科技有限公司
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