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本实用新型公开了一种TrenchMOS功率器件,涉及半导体功率器件技术领域。用于降低器件导通电阻的同时,可以有效保障击穿电压。包括:外延层,栅极沟槽和注入埋层;所述栅极沟槽设置在所述外延层上;所述注入埋层位于所述栅极沟槽的正下方,且与所述栅极沟槽的底部以及侧壁相接触,所述注入埋层包括N型埋层和P型埋层。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212587514 U
(45)授权公告日 2021.02.23
(21)申请号 202021493617.9 (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
(22)申请日 2020
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