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- 2023-02-21 发布于四川
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本实用新型提供了一种基于物理气相沉积的涂层设备,属于物理气相沉积技术领域。该基于物理气相沉积的涂层设备包括真空镀膜腔、发射源、承载架和翻料组件。所述发射源设置于所述真空镀膜腔内部顶端,所述真空镀膜腔内部安装有电动滑台,所述承载架设置于所述发射源下方,且一侧与所述电动滑台的移动端固定连接,所述翻料组件包括夹具和驱动电机,所述夹具转动安装于所述承载架表面。本实用新型通过驱动电机驱动待镀膜工件转动,提高待镀膜工件的镀膜范围,可使工件表面的镀膜更加均匀,可提高镀膜效果,此外,通过电动滑台,可调节待镀膜工
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212741515 U
(45)授权公告日 2021.03.19
(21)申请号 202021220672.0
(22)申请日 2020.06.28
(73)专利权人 上海畅桥真空系统制造有限公司
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