原创力文档- 2
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- 2023-02-21 发布于四川
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本实用新型提供一种手机后盖的防顶印结构，包括贴设于手机后盖内表面的防爆膜，贴设于所述防爆膜顶面的硅胶层，以及固定于硅胶层顶面的基材膜；所述硅胶层的厚度为0.03～0.5mm，所述基材膜为PP、PET、或PC材料成型的薄膜片材，且厚度为5～30μm。通过基材膜与各器件的表面接触，由于塑胶薄膜片材的基材膜具有一定的强度，可以将器件凸起等不平整所产生的压应力分散在整个基材膜的表面，而硅胶层自身的蠕变作用则进一步将压应力化解，从而避免或减少防爆膜变形，可达到消除顶印的目的；硅胶层通过自粘性与防爆膜贴合，
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212752348 U
(45)授权公告日 2021.03.19
(21)申请号 202021743577.9 B32B 3/08 (2006.01)
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