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- 2023-02-22 发布于四川
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本实用新型公开了一种配液装置循环清洗系统,配液装置包括两组以上配液罐,循环清洗系统包括清洗液储液容器、供液主管及回流管,所述供液主管一端与所述清洗液储液容器的供液端相连,供液主管另一端与所述回流管一端相连,回流管另一端与所述清洗液储液容器的回流端相连,所述供液主管与所述回流管之间设有两条以上并联的供液支管,所述供液支管两端设有第一阻断阀,所述配液罐的进液端与所述供液支管相连,配液罐的出液端与所述回流管相连。本实用新型具有可减少供液主管和回流主管上阻断阀门的数量,避免清洗死角的优点。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212776817 U
(45)授权公告日 2021.03.23
(21)申请号 202021250789.3
(22)申请日 2020.06.30
(73)专利权人 楚
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