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本实用新型公开了一种高性能真空组件的清洗装置,包括一壳体,一设置于壳体正面的控制面板,一设置于壳体内与壳体一体的池体,一设置于壳体内底部的气缸,活塞杆贯穿壳体上端面,一设置于池体开口正上方的放置架,设置于池体底部的超声波发生器以及一与池体底部连通的排水管,管内设置一阀门,所述气缸伸缩带动放置架上下滑动,向池体内注入水与清洗液,将零件放在放置架上,气缸带动放置架上下滑动,使零件在清洗液内抛动,超声波发生器使水发生振动,使组件上的污渍脱落,由于组件不断在清洗液内抛动,加快组件上的污渍脱落,清洗效率高
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212792180 U
(45)授权公告日 2021.03.26
(21)申请号 202021473504.2
(22)申请日 2020.07.23
(73)专利权人 四
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