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一种新型激光直写曝光装置.pdfVIP

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  • 2023-02-23 发布于四川
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一种新型激光直写曝光装置.pdf

    本实用新型公开了一种新型激光直写曝光装置，属于曝光设备技术领域。本实用新型将平台控制和电控控制集成到一块控制处理板卡上，在该板卡实现对平台和电控的双重控制，相比于现有的控制结构，本实用新型不需要通过曝光软件实现平台和电控之间的协调，解决了两者调度时的通信延时和误码率的问题，提高了激光直写曝光设备平台与曝光设备之间的同步性能，提升了曝光的准确率；本实用新型的光源由DMD部件控制，且电控部分采用分布式控制方式，相比于传统的集中控制方式，本实用新型降低了布局和布线的复杂度，简化了控制结构。

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218512796 U (45)授权公告日 2023.02.21 (21)申请号 202222732720.X (22)申请日 2022.10.17 (73)专利权人 无锡影速半导体科技有限公司 地址

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