基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨装置.pdfVIP

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2023-02-25 发布于北京
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基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨装置.pdf

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一种基于氧化膜状态主动控制的轴承滚子ELID研磨装置，包括研磨盘模块、电源模块、反馈控制模块、电解液模块和轴承滚子，所述研磨盘模块中，上研磨盘可实现上下运动，对轴承滚子进行加压，吸附轴承滚子使其转动力矩大于摩擦阻力矩，从而实现轴承滚子接触恒定，摩擦恒定，使轴承滚子的连续稳定自转，实现研磨主运动，螺旋沟槽位于上研磨盘下表面，与轴承滚子接触，下研磨盘位于上研磨盘下方，与上研磨盘同轴线，直线沟槽位于下研磨盘上表面，直线沟槽表面为金属结合剂固着磨料磨具，沿直线沟槽的直线进给运动以及沿螺旋槽的螺旋运动用于

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212886973 U (45)授权公告日 2021.04.06 (21)申请号 202021500568.7 (22)申请日 2020.07.27 (73)专利权人浙