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- 2023-02-27 发布于北京
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提供了曝光掩模。该曝光掩模包括被曝于光以在衬底上形成图案的图案部分、围绕图案部分的外围的围绕部分以及布置在围绕部分中的校正图案部分。校正图案部分沿图案部分的边缘以线排列布置。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218524998 U
(45)授权公告日 2023.02.24
(21)申请号 202222605286.9
(22)申请日 2022.09.30
(30)优先权数据
10-2021-0132373
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