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本实用新型公开了一种光刻胶软烘干装置，涉及光刻设备技术领域，解决了目前涂胶晶片在烘箱内烘干时，涂胶晶片受热不均匀，造成烘干不彻底，使得薄膜与垫底的粘附度不足，同时部分晶片热板直接接触加热时，极易造成晶片爆裂，造成成品率底下的问题，其技术方案要点是：包括开口设置的烘箱主体，烘箱主体开口的两端对称设置有可将烘箱主体的开口封住的两个箱盖；烘箱主体的内部设置有隔温层，隔温层的顶端在两个箱盖合上时与箱盖的端部相抵触；烘箱的底端内壁和两个箱盖的下端面分别设置有位于烘干仓和冷却仓内部的加热器和冷却器；烘箱主体
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213023934 U
(45)授权公告日 2021.04.20
(21)申请号 202022439578.0
(22)申请日 2020.10.28
(73)专利权人 苏州理硕科技有限公司
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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