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一种半导体生产加工用清洗装置.pdfVIP

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  • 2023-03-02 发布于北京
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一种半导体生产加工用清洗装置.pdf

    本实用新型提供一种半导体生产加工用清洗装置。所述半导体生产加工用清洗装置包括超声波清洗槽；超声波发生器，所述超声波发生器设置在所述超声波清洗槽的底部；转动机构，所述转动机构设置在所述超声波清洗槽的一侧；第二电机，所述第二电机设置在所述转动机构上；收卷轴，所述收卷轴固定安装在所述第二电机的输出轴上；两个绕线轮，两个所述绕线轮均固定套设在所述收卷轴上；两个钢丝绳，两个所述钢丝绳分别缠绕在两个所述绕线轮上；两个挂环，两个所述挂环分别设置在两个所述钢丝绳的一端。本实用新型提供的半导体生产加工用清洗装置具

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213103568 U (45)授权公告日 2021.05.04 (21)申请号 202021169110.8 (22)申请日 2020.06.22 (73)专利权人 南京国科半导体有限公司

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