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- 2023-03-02 发布于北京
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本实用新型公开了一种连续涂布系统,属于涂布装置技术领域,解决了现有技术中有机半导体材料无法大面积、快速、高效制膜的同时精确控制薄膜形貌与堆积结构的问题。该连续涂布系统包括框架和涂布单元、供液装置以及设置在框架上的涂布单元移动装置、温控基台单元和基材传送装置;基材传送装置用于传送基材;供液装置为基材提供涂布液;涂布单元设置在涂布单元移动装置上,涂布单元移动装置用于控制涂布单元与基材之间的距离和角度;涂布单元通过对涂布液施加剪切力以控制涂膜厚度及形貌;温控基台单元用于控制基材温度,促进涂布液固化。本
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213102949 U
(45)授权公告日 2021.05.04
(21)申请号 202021199790.8 B05D 3/02 (2006.01)
(22)申请日 20
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