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- 2023-03-02 发布于北京
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本实用新型公开了一种高真空密封装置,包括本体,所述本体的内部开设有放置孔,所述放置孔的内部设置有密封塞,所述密封塞的内部开设有多个第二导气孔,所述密封塞的侧壁设置有连接柱,所述连接柱远离密封塞的一端固定连接有固定块,所述本体的侧壁固定连接有连接块,所述连接块的内部开设有第一导气孔,所述连接块的内部开设有连接孔,且连接孔位于第一导气孔的右侧,所述连接块远离本体的一侧开设有连接槽,所述本体的外表面设置有密封螺纹,所述密封螺纹的直径等于固定块的直径。本实用新型,结构合理,能够对设备内部进行真空密封,使
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213117921 U
(45)授权公告日 2021.05.04
(21)申请号 202021138520.6
(22)申请日 2020.06.18
(73)专利权人 重庆博圣仪器仪表有限公司
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