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一种可控制备均匀分布壳层结构的装置.pdfVIP

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  • 2023-03-02 发布于北京
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一种可控制备均匀分布壳层结构的装置.pdf

    本实用新型提供了一种可控制备均匀分布壳层结构的装置，通过溶液的流速来控制芯壳结构中壳层的厚度。本装置主要特征在于将注射器固定在微量注射泵上，注射器通过进液管与两块带凹槽的有机玻璃板相连，芯层材料固定在两块带凹槽的有机玻璃板之间，将两块带凹槽的有机玻璃板用螺栓夹紧，使两块带凹槽的有机玻璃板凹槽部分形成密闭通道，废液收集瓶通过出液管与两块带凹槽的有机玻璃板相连。本实用新型装置可以实现芯壳结构中壳层的可控制备，壳层分布均匀，且壳层厚度可根据需要进行调节，装置结构简单，易于操作。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213102106 U (45)授权公告日 2021.05.04 (21)申请号 202020696565.9 (22)申请日 2020.04.30 (73)专利权人 哈尔滨理工大学 地址

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