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- 2023-03-02 发布于四川
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本实用新型公开了一种半导体加工用表面清洁装置,包括顶板,所述顶板底部表面的两侧均固定连接有电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的底部固定连接有升降板,所述升降板底部表面中心处的两侧均固定连接有连接柱,所述连接柱的底部固定连接有清理框,所述清理框内腔的底部固定连接有清理板,所述清理板底部表面的前侧固定连接有清理毛。本实用新型可使表面清洁装置对半导体表面进行清灰和吹灰,这样表面清洁装置的清洁更加彻底,解决了表面清洁装置在使用时,因只能进行清灰或吹灰,使得粘结在表面浮灰无法被清理,造成清洁后的半导体表面仍然不洁
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213079226 U
(45)授权公告日 2021.04.30
(21)申请号 202020988315.2
(22)申请日 2020.06.03
(73)专利权人 上海锶坎电子有限公司
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